EX3儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX3儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
特點:
經(jīng)典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
集成一體化設(shè)計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機(jī)相連，方便儀器使用。
高穩(wěn)定性光源
采用半導(dǎo)體激光器作為探測光的光源，穩(wěn)定性高，噪聲低。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率、塊狀材料的復(fù)折射率等。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進(jìn)行方便的測量數(shù)據(jù)分析、儀器校準(zhǔn)等操作。
安全的用戶使用權(quán)限管理
軟件中設(shè)置了用戶使用權(quán)限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。
可擴(kuò)展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當(dāng)擴(kuò)展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應(yīng)用領(lǐng)域:
EX3適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX3可測量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。
技術(shù)指標(biāo):
| 項目 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 儀器型號 | EX3 |
| 測量方式 | 自動測量 |
| 樣品放置方式 | 水平放置 |
| 光源 | 半導(dǎo)體激光器，波長635nm |
| 膜厚測量重復(fù)性* | 0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 膜厚范圍 | 透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
| 折射率范圍 | 1.3 – 10 |
| 探測光束直徑 | Φ2-3mm |
| 入射角度 | 30°-90°，精度0.05° |
| 偏振器方位角讀數(shù)范圍 | 0-360° |
| 偏振器步進(jìn)角 | 0.014° |
| 樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° |
| 允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達(dá)120mm x 160mm |
| 配套軟件 | * 用戶權(quán)限設(shè)置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計算、輸入輸出 |
| 外形尺寸 | （入射角度70°時）450*375*260mm |
| 儀器重量（凈重） | 15Kg |
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