能生產(chǎn)3nm!中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術(shù):完全不同于ASML
中科院的固態(tài)DUV激光技術(shù)完全基于固態(tài)設(shè)計(jì),由自制的Yb:YAG晶體放大器生成1030nm的激光,在通過(guò)兩條不同的光學(xué)路徑進(jìn)行波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換。- 2025-03-27 08:51:19 13416
- 全固態(tài)DUV光源技術(shù)光刻機(jī)
能生產(chǎn)3nm!中科院成功研發(fā)全固態(tài)DUV光源技術(shù):完全不同于ASML
中科院的固態(tài)DUV激光技術(shù)完全基于固態(tài)設(shè)計(jì),由自制的Yb:YAG晶體放大器生成1030nm的激光,在通過(guò)兩條不同的光學(xué)路徑進(jìn)行波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換。Intel宣布世界最先進(jìn)光刻機(jī)投產(chǎn)!晶圓生產(chǎn)效率/可靠性翻倍
Intel宣布,ASML首批兩臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機(jī)已經(jīng)在其工廠投入生產(chǎn)。據(jù)悉,Intel利用先進(jìn)光刻機(jī)已在一季內(nèi)生產(chǎn)3萬(wàn)片晶圓,這些晶圓可以產(chǎn)出數(shù)千顆計(jì)算芯片。
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