一·MTDH-1000實驗真空電弧爐具體參數(shù)

二·MTDH-1000實驗真空電弧爐用途

   非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構(gòu)在真空或保護氣氛下對少量（數(shù)十克*百克）貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。
三·真空電弧爐結(jié)構(gòu)說明
　　本產(chǎn)品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構(gòu)、上電極旋轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，吸鑄模具升降機構(gòu)，真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結(jié)構(gòu)新穎外形美觀大方。控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設(shè)計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作！下電極可裝有五個坩堝工位，一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動，方便熔化操作。爐側(cè)有一至二個觀察窗用來操作引弧，觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。
  真空系統(tǒng)采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無聲，無雜音。真空機組上設(shè)有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。
　　電源控制采用電弧熔煉電源，安全系數(shù)高，穩(wěn)定性強。電路設(shè)有斷水報警及保護功能。