光刻膠是微納加工過程中非常關(guān)鍵的材料。有專家表示,中國要制造芯片,光有光刻機還不夠,還得打破國外對“光刻膠”的壟斷。
日前,西湖大學仇旻研究團隊在《納米快報》《納米尺度》《應用表面科學》等期刊上連續(xù)發(fā)表一系列研究成果,雕刻小到微米甚至納米級別的“冰雕”游刃有余,從精確定位到精準控制雕刻力度,再到以“冰雕”為模具制作結(jié)構(gòu)、加工器件,一套以“wafer in, device out”(原料進,成品出)為目標的“冰刻2.0”三維微納加工系統(tǒng)雛形初現(xiàn)。
這個研發(fā)帶來顯然*前景,為何這樣說呢?零下140攝氏度左右的真空環(huán)境,能讓水蒸氣凝華成無定形冰。“無常形”的水蒸氣可以包裹任意形狀的表面,哪怕是極小的樣品也沒有問題;水蒸氣輕若無物,使在脆弱材料上加工變成可能。對應“光刻膠”,他們給這層水冰起名“冰膠”,給冰膠參與的電子束光刻技術(shù)起名“冰刻”。
實際上,一旦將光刻膠換成了冰膠,還能夠*地簡化加工流程,規(guī)避洗膠帶來的污染,以及難以洗凈的光刻膠殘留導致良品率低等問題。“冰刻”只需要讓冰融化或升華成水蒸氣即可,仿佛這層冰膠不曾存在過一樣。
上述團隊在新發(fā)表的文章結(jié)尾,他們用一種非常科幻的方式展望了“冰刻”的未來。毫無疑問,未來圍繞“冰刻”的研究,將聚焦于傳統(tǒng)“光刻”能力無法企及的領(lǐng)域。
受益于水這種物質(zhì)得天獨厚的生物相容性,在生物樣本上“冰刻”光子波導或電子電路有望得以實現(xiàn)。
原標題:努力打破國外對光刻膠壟斷:我國“冰刻2.0”三維微納加工系統(tǒng)雛形初現(xiàn)
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