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遼寧盤錦uv光解凈化設(shè)備?  簡介

1. 該設(shè)備，既可以單獨(dú)使用，也可以靈活配套低溫等離子廢氣處理設(shè)備、噴淋塔、活性炭吸附箱、靜電式油煙凈化器等各類凈化裝置共同使用。

2. 凈化率根據(jù)需要，可以配置85%和95%兩種不同的規(guī)格。

3. 設(shè)備從4000風(fēng)量到64000風(fēng)量規(guī)格型號(hào)齊全，其他型號(hào)可以定制。

4. 設(shè)備材質(zhì)可選用碳鋼或304不銹鋼。

 遼寧盤錦uv光解凈化設(shè)備?

遼寧uv光解廢氣凈化器產(chǎn)品凈化原理圖：

uv光解有機(jī)廢氣凈化器，簡單來講，其凈化過程有兩個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)，一個(gè)是對(duì)廢氣分子的裂解，另一個(gè)是對(duì)裂解后產(chǎn)生的氣體分子的氧化，因此，它又常被稱為光解氧化廢氣處理設(shè)備。其具體凈化過程如下：

1. 通過我們光解設(shè)備波段內(nèi)的真紫外線（波長范圍170~184.9nm），照射有機(jī)氣體或惡臭氣體分子，當(dāng)這些氣體分子吸收了這類紫外線光后，因紫外線光本身所帶有的能量，使有機(jī)氣體或惡臭氣體分子內(nèi)部發(fā)生裂解，化學(xué)鍵斷裂，形成游離狀態(tài)的原子或基團(tuán)（C*、H*、O*等）。

2. 同時(shí)，混合氣體中的氧氣，被紫外線光裂解形成游離的氧原子，并結(jié)合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】；混合氣體中的水蒸氣被紫外線光裂解產(chǎn)生羥基【UV H2O→H OH-(羥基) 】，而這些生成的臭氧和羥基具有*的氧化性，可將廢氣分子裂解產(chǎn)生的原子和基團(tuán)（甚至是有機(jī)氣體或惡臭氣體分子）氧化成H2O和CO2等無污染的低分子化合物。

3. 另外，利用高能紫外線光束可裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺菌的目的。

適用范圍

以上是uv光解有機(jī)廢氣凈化器的常見應(yīng)用，但并非全部應(yīng)用，想要了解您的廢氣是否適用uv光解設(shè)備，請(qǐng)直接來電與工程師交流。

嚴(yán)格意義上來講，標(biāo)準(zhǔn)和地方標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于廢氣排放，都是規(guī)定某種污染物的排放限值，因此，了解uv光解設(shè)備能夠凈化哪些污染物是更為關(guān)鍵的問題。

uv光解有機(jī)廢氣凈化器，具體能夠處理哪些廢氣和惡臭氣體，是根據(jù)uv光解的光子能量和被處理氣體的化學(xué)鍵鍵能來確定的，只有鍵能低于UV光子能量，才能被裂解。下表匯集了常見的工業(yè)廢氣和惡臭氣體的污染物結(jié)合能。

· 混合氣體中需要有足夠的含氧量，才能產(chǎn)生足夠的游離態(tài)氧和臭氧與裂解后的惡臭氣體分子基團(tuán)結(jié)合產(chǎn)生無污染的低分子化合物。提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸?而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率，對(duì)于高濃大分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。因此，處理高濃廢氣時(shí)，應(yīng)相應(yīng)的補(bǔ)充一部分新鮮風(fēng)以增加含氧量。

· 裂解反應(yīng)時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)時(shí)間需約2~3s，即廢氣從光解設(shè)備出來以后需2~3的氧化反應(yīng)時(shí)間，即一般廢氣從uv光解設(shè)備出來至檢測口須15米長或以上的管道。

· 在滿足有機(jī)廢氣分子鍵能低于UV光子能量，以及含氧量充足的條件下,并且根據(jù)風(fēng)量情況配置合適的uv光解設(shè)備的情況下,可以保證達(dá)到《大氣污染物排放限值》中的排放標(biāo)準(zhǔn)，也可以滿足《惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》的要求。

· uv光解凈化的*穩(wěn)定、高效，需要反應(yīng)溫＜70℃，廢氣濃＜100mg/m3，相對(duì)濕＜99%，pH適宜的范圍為7~9。因此，對(duì)于溫高于70℃、濃高于100 mg/m3的廢氣，需要搭配噴淋塔、等離子凈化器、活性炭吸附裝置使用。

uv光解有機(jī)廢氣凈化器產(chǎn)品實(shí)拍