X射線熒光光譜測(cè)厚儀的主要優(yōu)勢(shì)有:
分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序 適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm 樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:90kg
x射線熒光光譜測(cè)厚儀Thick800A特色
1.可測(cè)量0.01um-300um的鍍層。
2.可做各種鍍層(多層、合金、多層鎳)的精密測(cè)量。
3.除平板形外,還可測(cè)量圓形、棒形(細(xì)線)等各種形狀。
4.可制作非破壞性膜厚儀的標(biāo)準(zhǔn)板。
5.該電鍍膜厚檢測(cè)儀可檢查非破壞式膜厚儀的測(cè)量精度。
6.可高精度測(cè)量其他方式不易測(cè)量的三層以上的鍍層。
7.可對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理,以及和逐級(jí)進(jìn)行共同管理。
8.標(biāo)準(zhǔn)板校正值的計(jì)算和設(shè)定可自動(dòng)進(jìn)行,非常簡(jiǎn)單。
9.有微處理器來(lái)進(jìn)行計(jì)算、儲(chǔ)存、思考。
10.本膜厚儀采用全對(duì)話是操作,因此,只要依據(jù)測(cè)量條件來(lái)進(jìn)行設(shè)定就可測(cè)量情況,非常簡(jiǎn)單。
11.多可設(shè)定四層鍍層,而每一層均可進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理。例如:測(cè)量條件、平均值、值、小值、上下限值、直方圓均可進(jìn)行計(jì)算并可有列印機(jī)印出,制作測(cè)量報(bào)告很容易。
12.每種鍍層所需的電解液、敏感度及攪動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)的選擇,均可由電鍍膜厚檢測(cè)儀的微處理器自動(dòng)判斷、設(shè)定。
13.測(cè)量數(shù)據(jù)可由通訊網(wǎng)路來(lái)傳輸,所以能和主機(jī)共同進(jìn)行數(shù)據(jù)管理。
14.由于分解速度差距分得很細(xì),因此可縮短測(cè)量時(shí)間。
15.可分離測(cè)量銅(合金)上的錫(合金)鍍層間的擴(kuò)散(合金)層。
16.由于可儲(chǔ)存64個(gè)不同的測(cè)量情況,所以有相同的測(cè)量情況時(shí),就不必再進(jìn)行設(shè)定。
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