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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
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1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GS
帶滑動法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-120
4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)
高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-
高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X
單室等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)
1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GS
球形脈沖激光淀積系統(tǒng)(PLD)
開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-12
微型PECVD系統(tǒng)
高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80
快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3
GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW
高真空PECVD系統(tǒng)
GSL-450-PLD激光鍍膜設(shè)備
GSL-300-PLD激光鍍膜設(shè)備
1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)
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