高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機在MLCC行業(yè)的應用

隨著電子信息技術的快速發(fā)展，對作為電子信息材料重要組成部分的電極漿料提出新的、更高的要求。MLCC作為主要的陶瓷電容，成為被動電子元件中使用為廣泛、用途廣、使用量大的電子元件。

片式多層陶瓷電容器（MLCC）是由印好電極（內(nèi)電極）的陶瓷介質(zhì)膜片以錯位的方式疊合起來，經(jīng)過一次性高溫燒結(jié)形成陶瓷芯片，再在芯片的兩端封上金屬層（外電極），從而形成一個類似獨石的結(jié)構體。

MLCC 生產(chǎn)過程中，首先需調(diào)漿，即將陶瓷粉和粘合劑、溶劑等按一定比例分散研磨處理，形成陶瓷漿料。質(zhì)量良好的陶瓷漿料的制備是制作MLCC的基礎。常用的陶瓷漿料是砂磨機處理后的鈦酸鋇漿料，但是采用砂磨機，清洗不方便，且產(chǎn)品性能有局限。近年來越來越多的廠家使用高壓均質(zhì)機或微射流均質(zhì)機來處理鈦酸鋇漿料。但因鈦酸鋇顆粒較大，直接用超高壓微射流均質(zhì)機處理，特別容易堵塞。而只采用高壓均質(zhì)機，陶瓷漿料的分散研磨效果達不到上佳。所以我們采用高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機來處理物料。

一．高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機介紹：

1. 高壓均質(zhì)原理

物料通過往復運動的柱塞泵吸入并加壓，在柱塞作用下進入壓力大小可調(diào)節(jié)的閥組中，經(jīng)過特定寬度的限流縫隙（工作區(qū)）后，瞬間失壓的物料會產(chǎn)生一個很大的爆破力，以*的流速（1000 至 1500 米/秒）噴出，碰撞在閥組件之一的撞擊環(huán)上，產(chǎn)生了三種效應：空穴效應、撞擊效應、剪切效應，從而達到液體樣品均質(zhì)、粉碎和乳化的效果。

2. 微射流原理

微射流高壓均質(zhì)機主要是由分散單元和增壓機構組成，分散單元內(nèi)部通常有“Z”型和“Y”型。在增壓機構的作用下，高壓狀態(tài)下的樣品在分散單元的狹小縫隙間快速通過。此時流體內(nèi)壓力的急劇下降而形成的超聲速流速，流體內(nèi)的粒子碰撞，空化和湍流，剪切力作用于劈開納米大小的細微分子使流體的成分以*的均質(zhì)的狀態(tài)存在。 

高壓均質(zhì)機核心部分是均質(zhì)閥座、均質(zhì)閥芯和撞擊環(huán)三部分組成；而微射流式高壓均質(zhì)機核心部分是分散單元。

二．高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機特點：

● *設計高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機，該設備分為高壓均質(zhì)機分散單元和超高壓微射流分散單元；首先使用高壓均質(zhì)機分散單元對樣品進行預處理，然后使用超高壓微射流粉碎顆粒，防止堵塞，有效提高工作效率，節(jié)約成本；

● 5.5Kw的大功率電機驅(qū)動，保證高壓下穩(wěn)定工作，維護簡單，

● 西門子觸摸屏控制面板，一鍵操作，簡單快捷

● 內(nèi)置電子安全壓力保護裝置，確保安全穩(wěn)定運行

● *的內(nèi)置式冷卻器， 直接冷卻均質(zhì)點，而且不消耗任何物料

● 所有接觸物料管道均為316L材質(zhì)

三．實驗過程

1．使用高壓均質(zhì)分散單元

將預處理好的鈦酸鋇漿料或膠水樣品導入進料杯中，開機，等樣品正常出料后，將壓力逐漸上壓至1500bar，然后一次排出全部物料，高壓均質(zhì)分散單元操作結(jié)束。

2. 使用微射流分散單元粉碎

將上一步處理好的樣品導入進料杯中，首先將設備頻率調(diào)整5-10hz左右，開機，注意觀察壓力變化，逐漸增加壓力至目標壓力稍低壓力，充分循環(huán)若干次，加壓至目標壓力，反復均質(zhì)若干次，均質(zhì)結(jié)束，直接排出物料收集。

3. 分別清洗兩個分散單元，清洗結(jié)束，實驗完畢    

四、實驗結(jié)果

1. 膠水試驗結(jié)果

由表可以看出，均質(zhì)2遍后，膠水粘度基本不再變化，粘度可以下降35%左右。

1. 漿料試驗結(jié)果

由表可以看出，在均質(zhì)2遍后，漿料的粘度變化不大，粒度和比表面積都呈下降趨勢。

進一步對漿料進行微射流處理2次后，漿料的粘度不再變化。

1. 產(chǎn)品驗證結(jié)果：

較砂磨處理，經(jīng)均質(zhì)機2遍+微射2遍處理后，MLCC產(chǎn)品的容量升高。

五、設備規(guī)格和參數(shù)

六、實驗結(jié)論

高壓均質(zhì)—微射流兩用均質(zhì)機對MLCC用膠水和鈦酸鋇漿料都有較好的分散作用，產(chǎn)品的容量也提高。

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