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狂購進EUV光刻機:臺積電開始為1nm制程做準備

2020-12-29 09:46:19來源:快科技 閱讀量:138 評論

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  之前有消息稱,臺積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購買更多更*制程的EUV光刻機,而這些都是為了新制程做準備。
 
  在不久前舉辦的線上活動中,歐洲微電子研究中心IMEC*執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示,在與ASML公司的合作下,更加*的光刻機已經取得了進展。
 
  Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續(xù)退出市場,目前ASML把握著主要的*光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
 
  目前ASML已經完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計,至于設備的商業(yè)化。要等到至少2022年,而等到臺積電和三星拿到設備,之前要在2023年。
 
  與此同時,臺積電在材料上的研究,也讓1nm成為可能。臺積電和交大聯手,開發(fā)出薄、厚度只有0.7納米的超薄二維半導體材料絕緣體,可望借此進一步開發(fā)出2納米甚至1納米的電晶體通道。
 
  據悉,臺積電正為2nm之后的*制程持續(xù)覓地,包含橋頭科、路竹科,均在臺積電評估中*投資設廠的考量之列。
 
  原標題:狂購進EUV光刻機:臺積電開始為1nm制程做準備
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