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晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備 超純水設(shè)備

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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  • 產(chǎn)品類別:純凈水設(shè)備
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  • 更新時間:2023-09-07 18:20:30
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產(chǎn)品簡介

晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備  晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備  北京公司從事的反滲透和EDI技術(shù),屬當(dāng)今世界上*技術(shù),在電子、醫(yī)藥等行

詳情介紹
 晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備

  晶片切割用高純水設(shè)備-北京單晶硅用水設(shè)備

  北京公司從事的反滲透和EDI技術(shù),屬當(dāng)今世界上*技術(shù),在電子、醫(yī)藥等行業(yè)水質(zhì)凈化、清洗、水質(zhì)純化以及水處理有著廣泛的應(yīng)用。超純水設(shè)備具有能耗低、脫鹽率高、除菌能力強和操作簡單、維護方便的特點,大大節(jié)省了運行、維修成本。

  EDI技術(shù)在當(dāng)今已涉足了生產(chǎn)的眾多領(lǐng)域。我們的EDI超純水系列產(chǎn)品在眾多電子廠、制藥廠以及科研實驗室使用效果非常好,愿意為廣大客戶提供好的超純水工藝和設(shè)備,為貴司減少生產(chǎn)成本和提高生產(chǎn)效率盡一份力!

  詳細(xì)介紹:

  EDI技術(shù)簡介(Electrodeionization)

  又稱連續(xù)電除鹽技術(shù),它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達(dá)到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水,它具有技術(shù)*、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡便的優(yōu)點,可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領(lǐng)域,是水處理技術(shù)的綠色革命。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置,生產(chǎn)出電阻率高達(dá)16-18MCM的超純水。北京EDI超純水設(shè)備,北京純水設(shè)備,北京工業(yè)超純水設(shè)備

  EDI工作原理:

  EDI設(shè)備工作原理

  高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且,膜處理過程在機械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽,水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

  EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2S/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18M.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2M.cm(25℃)的純水。

  EDI工作原理圖

  EDI裝置的特點EDI裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

  EDI模塊結(jié)構(gòu)特點

  北京EDI超純水設(shè)備,北京純水設(shè)備,北京工業(yè)超純水設(shè)備

  1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料

  2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

  3、采用進(jìn)口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂

  4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

  5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

  6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件

  7、膜堆出廠高試壓7bar不漏水

  8、膜堆電阻低、功耗小

  9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實

  10、大膜堆處理水量3T/H,小模堆處理水量75L/H

  11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理,不易堵塞,水流分布均勻、*。

  進(jìn)水指標(biāo)要求

  ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

  ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):25ppm。

  ◎電導(dǎo)率:40S/cm

  ◎PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時,EDI工作的pH范圍為8.0~9.0。

  ◎溫度:5~35℃。

  ◎進(jìn)水壓力:4bar(60psi)。

  ◎硬度:(以CaCO3計):1.0ppm。

  ◎有機物(TOC):0.5ppm。

  ◎氧化劑:Cl20.05ppm,O30.02ppm。

  ◎變價金屬:Fe0.01ppm,Mn0.02ppm。

  ◎H2S:0.01ppm。

  ◎二氧化硅:0.5ppm。

  ◎色度:5APHA。

  ◎二氧化碳的總量:10ppm

  ◎SDI15min:1.0。

  EDI是一種具有革命性意義的新型綠色脫鹽超純水制備技術(shù),是放置在反滲透系統(tǒng)后的二次除鹽設(shè)備,它可以制取15~18M.CM的超純水.EDI模塊的再生無需任何化學(xué)藥劑,可以連續(xù)運行.再生時,只需調(diào)節(jié)EDI的運行電流即可.因此廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、發(fā)電廠、制藥和實驗室等領(lǐng)域。

  產(chǎn)品關(guān)鍵字:北京EDI超純水設(shè)備,北京純水設(shè)備,北京超純水設(shè)備

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