半導體清洗用超純水設備工作原理簡介
　　海德能北京水處理公司生產(chǎn)的半導體清洗用超純水設備，隨著技術的不斷提高，應用的范圍比較廣泛，滿足了不同行業(yè)的用水需求，下面對半導體清洗用超純水設備做了一個簡單的介紹。
　　一、半導體清洗用超純水設備工作原理
　　EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水.EDI設備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

　　二、半導體清洗用超純水設備制備工藝
　　1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
　　2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(工藝)
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥17MΩ.CM)(工藝)
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥15MΩ.CM)(工藝)
　　5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點。(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
　　海德能水處理設備公司都專心致志、精益求精，公司將以更專業(yè)的技術、更優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、更人性化的服務迎接廣大客戶，竭誠為廣大新老客戶服務。