產(chǎn)品簡介
芯片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢分析 芯片清洗超純水設(shè)備采用*的配置原件,保證了設(shè)備的出水質(zhì)量,滿足了不同行業(yè)的用水需求,芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)穩(wěn)定,技術(shù),海德能水處理
詳情介紹
芯片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢分析
芯片清洗超純水設(shè)備采用*的配置原件,保證了設(shè)備的出水質(zhì)量,滿足了不同行業(yè)的用水需求,芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)穩(wěn)定,技術(shù),海德能水處理設(shè)備公司提供芯片清洗超純水設(shè)備的詳細介紹。
一、芯片清洗超純水設(shè)備的優(yōu)勢分析
1、工藝的設(shè)計細微周到,元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計的流量、流速、壓力等均符合國家的標準規(guī)范及國外材料商的規(guī)定要求。
2、制水過程高度自動化,自動進水,自動制水,純水箱滿水自動停機,用水后自動恢復,可*實現(xiàn)無人值守的運行。
3、可選用可編程控制(PLC),計算機觸摸屏控制,遠程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等*技術(shù),使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。
二、芯片清洗超純水設(shè)備的工藝流程
1、采用兩級反滲透方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點
2、采用EDI方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
3、采用離子交換方式,其流程如下:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點
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芯片清洗超純水設(shè)備采用的是高質(zhì)量的配置原件,*的處理工藝,水質(zhì)非常的穩(wěn)定,滿足了客戶的用水需求,芯片清洗超純水設(shè)備與多家企業(yè)達成了長期的合作。感興趣的可以我們的電話進行咨詢。
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