產(chǎn)品簡介
半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理 海德能北京水處理公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備,根據(jù)不同地區(qū)的不同水質(zhì),保證了超純水設(shè)備的出水質(zhì)量。半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備采用
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半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理
海德能北京水處理公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備,根據(jù)不同地區(qū)的不同水質(zhì),保證了超純水設(shè)備的出水質(zhì)量。半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備采用*的不銹鋼材質(zhì),抗腐蝕能力強(qiáng),同時(shí)也不會(huì)出現(xiàn)生銹問題,質(zhì)量可靠,受到用戶的*。
一、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理
EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水.EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)。(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)。(≥18MΩ.CM)(工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)。(≥17MΩ.CM)(工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)。(≥15MΩ.CM)(工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn)。(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
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