如何處理EDI超純水設(shè)備中的有機(jī)物污堵和結(jié)垢?
　　在EDI超純水設(shè)備運(yùn)行中，當(dāng)進(jìn)水有機(jī)污染物TOC或TEA含量超過(guò)設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，淡水室的離子交換樹(shù)脂和離子膜會(huì)發(fā)生有機(jī)污堵和結(jié)垢。有機(jī)物污堵和結(jié)垢要分別進(jìn)行處理，這樣才能效的做到對(duì)有機(jī)物污堵和結(jié)垢的處理。那么如何處理EDI超純水設(shè)備中的有機(jī)物污堵和結(jié)垢?
　　一、有機(jī)物污堵清洗
　　1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。
　　2、分離EDI設(shè)備與其他EDI水處理設(shè)備的連接管路。
　　3、連接EDI清洗裝置，使清洗泵通過(guò)進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI模塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開(kāi)啟所有的進(jìn)出水閥門。
　　4、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉和2%鹽的清洗液。
　　5、堿洗步驟：?jiǎn)?dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗。
　　6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。
　　7、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗(反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水)，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗。
　　8、分別檢測(cè)產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。
　　9、調(diào)節(jié)各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。
　　10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。
　　11、再生步驟：開(kāi)啟PLC控制柜電源，向edi模塊送電，進(jìn)行再生，直至電阻率達(dá)到出水要求為止。
　　12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并做好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。

　　二、有機(jī)物污堵和結(jié)垢清洗
　　1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。
　　2、分離EDI超純水設(shè)備與其他EDI水處理設(shè)備的連接管路。
　　3、連接EDI清洗裝置，使清洗泵通過(guò)進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI模塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開(kāi)啟所有的進(jìn)出水閥門。
　　4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。
　　5、酸洗步驟：?jiǎn)?dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗。
　　6、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。
　　7、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗(純水設(shè)備產(chǎn)水)，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗。
　　8、分別檢測(cè)產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。
　　9、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉和2%鹽的清洗液。
　　10、堿洗步驟：?jiǎn)?dòng)清洗泵，分別調(diào)節(jié)濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗。
　　11、停止清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。
　　12、沖洗步驟：向清洗水箱連續(xù)注入清洗(反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水)，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗。
　　13、分別檢測(cè)產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。
　　14、調(diào)節(jié)各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。
　　15、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。
　　16、再生步驟：開(kāi)啟PLC控制柜電源，向EDI模塊送電，進(jìn)行再生，直至電阻率達(dá)到出水要求為止。
　　17、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并做好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。
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