鱗片石墨分散機,鱗片石墨研磨分散機,石墨分散機,石墨烯研磨分散機,石墨烯分散設(shè)備,SGN研磨分散機采用二級結(jié)構(gòu),“膠體磨+分散機”一體化設(shè)備,先研磨后分散,配合14000rpm高轉(zhuǎn)速,分散效果好。
鱗片石墨廣泛用于治金工業(yè)的高級耐火材料與涂料。如鎂碳磚、坩堝等。軍事工業(yè)火工材料安定劑、冶煉工業(yè)脫硫增速劑、輕工業(yè)的鉛筆芯、電氣工業(yè)的碳刷、電池工業(yè)的電極、化肥工業(yè)的催化劑等。鱗片石墨經(jīng)過深入加工,又可以生產(chǎn)出石墨乳,用于潤滑劑、脫模劑、拉絲劑、導(dǎo)電涂料等。還可以生產(chǎn)膨脹石墨,用于柔性石墨制品原料,如柔性石墨密封件及柔性石墨復(fù)材料制品等。
鱗片石墨作為涂料的功能填料主要用于防腐涂料、防火涂料和導(dǎo)電涂料。作為防腐材料,它和炭黑、*及油料等制成的防銹底漆,具有良好的耐化學(xué)品和溶劑腐蝕性能;若在配方中加入鋅黃等化學(xué)顏料,其防銹效果更好。
鱗片石墨可直接作為碳類導(dǎo)電填料亦可制成復(fù)合導(dǎo)電填料用于導(dǎo)電涂料。但由于石墨鱗片的添加量較大,會使涂料的性能變脆而使其應(yīng)用受到一定限制。因此,采取措施進一步提高石墨的導(dǎo)電性,有效降低石墨鱗片的添加量。
SGN鱗片石墨研磨分散機是結(jié)合研磨和分散功能的一體化的設(shè)備。研磨:利用剪切力、摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒;分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕、分布均勻及穩(wěn)定目的。
在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
SGN石墨烯研磨分散設(shè)備采用德國*的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。
鱗片石墨研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
初級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
GMD2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000系列鱗片石墨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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