銀漿研磨分散機，銀粉漿料分散機，SGN研磨分散機，納米銀漿研磨分散機，銀漿高速分散機，銀漿管線式分散機，SGN銀粉研磨分散設(shè)備采用*的結(jié)構(gòu)設(shè)計將傳統(tǒng)的膠體磨和分散機合二為一，并配合超高速的轉(zhuǎn)速，轉(zhuǎn)速可達14000rpm，研磨分散效果更佳。
銀漿系由高純度的金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對銀粉的分散是至關(guān)重要的，當然分散劑的應(yīng)用也是*的。
納米銀粉分散混合設(shè)備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發(fā)生團聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿？銀漿的制備，炭黑的制備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機可幫您解決此類難題。結(jié)合客戶實驗案例，采用SGN研磨分散機進行銀粉處理，不僅生產(chǎn)效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言，物料損失更小。
GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
GMD2000系列的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是所說的濕磨。
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
SGN研磨分散機設(shè)備選型表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
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