KDH-300微型電弧爐小型非自耗爐 返回列表頁

一、微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產(chǎn)品簡介
 
微型電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。
 
適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌
 
面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。
 
二、非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐產(chǎn)品特點(diǎn)
 
1、采用高純氬氣保護(hù)，熔煉溫度可達(dá)3500℃
 
2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少
 
3、水冷銅電極可移動(dòng)，可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品

 

1. 水冷銅坩堝可方便拆卸

 
5、采用真空計(jì)測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力
 
6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
 

1. 桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源

• 微型非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐設(shè)備參數(shù)：

 
  1·設(shè)備電源，AC220V 50HZ
 
  2·設(shè)備功率：10kw
 
  3·設(shè)備容量：0~20g
 
  4·水冷銅模：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個(gè)12*φ25；5個(gè)4*φ8樣品鍋，另可根據(jù)客
 
戶要求定制
  5·真空吸鑄：（選配）吸鑄直徑0~3mm
 
 
 
 
四、非自耗真空電弧熔煉爐小型非自耗真空電弧爐結(jié)構(gòu)簡介
 
微型電弧爐由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和
 
熔煉電源組成。
 
1、真空室：采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu)，既滿足高真空要求，又便
 
于觀察實(shí)驗(yàn)情況。
 
2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負(fù)電極，頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu)，可方便的
 
在幾個(gè)樣品之間移動(dòng)，密封采用動(dòng)密封裝置，保證在移動(dòng)過程中的真空度。
 
3、水冷銅模：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個(gè)12*φ25；5個(gè)4*φ8樣品鍋，另可根據(jù)客戶要
 
求定制；
 
4、氣路系統(tǒng)：由壓力傳感器、電磁閥、壓力罐、手動(dòng)閥門和管路組成，可方便
 
的實(shí)現(xiàn)手動(dòng)充放氣，還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣，保護(hù)真空室安全。
 
5、坩堝升降系統(tǒng)：底部水冷銅模可實(shí)現(xiàn)上下升降，帶鎖緊裝置，可非常方便的
 
進(jìn)出料。
 
6、機(jī)殼：結(jié)合國內(nèi)外設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼，外
 
表噴塑處理；
 
7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡單，結(jié)構(gòu)小巧；