真空懸浮爐真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，真空懸浮爐專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。真空懸浮爐采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達5.0*10-5pa。
一、真空懸浮熔煉爐設備用途
真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和高*材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。
二、真空懸浮熔煉爐設備特點
1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。
2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。
3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。
4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達5.0*10-5pa。
三、主要技術參數(shù)
1、額定功率：65Kw
2、容量(以鈦計)：0.25Kg
3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa
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