KDH-500真空電弧爐爾莫新材料供應(yīng) 返回列表頁

KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐

一、 KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

三、KDH-500熔煉爐非自耗真空電弧爐爾莫新材料供應(yīng)設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號： KDH-500

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時，拆卸方便

4、真空系統(tǒng)配置：飛越直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa

6、熔煉電流：額定電流≤450A

7、電弧熔煉水冷坩堝：五個工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-50(克）/熔煉池，一個長條工位容重（樣品重量）60(克；1~2個磁攪拌工位，攪拌可切換

8、攪拌方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉(zhuǎn)組件；

9、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu)，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜。