聚四氟乙烯PTFE四氟燒瓶定制不同頸數(shù)口徑 返回列表頁

聚四氟乙烯PTFE四氟燒瓶定制不同頸數(shù)口徑

• 產(chǎn)品簡介

   聚四氟乙烯燒瓶通常具有圓肚*的外觀，與燒杯明顯地不同。它的窄口是用來防止溶液濺出或是減少溶液的蒸發(fā)，并可配合橡皮塞的使用，來連接其它的聚四氟乙烯器材。燒瓶是實驗室中使用的有頸玻璃器皿，用來盛液體物質。

   聚四氟乙烯PTFE四氟燒瓶定制不同頸數(shù)口徑，因可以耐受一定的加熱而被稱作燒瓶。燒瓶通常有平底和圓底之分，通常具有圓肚*的外觀。 在化學實驗中，試劑量較大而又有液體物質參加反應時使用的容器。一般來時水浴或油浴實驗方法較多

蒸餾燒瓶

蒸餾燒瓶一種用于液體蒸餾或分餾物質的玻璃容器。常與冷凝管、接液器配套使用。也可裝配氣體發(fā)生器。跟圓底燒瓶相似。可根據(jù)要求制作成聚四氟乙烯材質的燒瓶

使用注意事項：

1.加熱時要墊石棉網(wǎng)，也可以用其他熱浴加熱。加熱時，液體量不超過容積的2/3，不少于容積的1/3。

2.配置附件（如溫度計等）時，應選用合適的橡膠塞，特別注意檢查氣密性是否良好。

3.蒸餾時應事先在瓶底加入少量沸石，以防暴沸。

4.加熱時應放在石棉網(wǎng)上，使之均勻受熱。

5.蒸餾完畢須先關閉活塞后再停止加熱，防止倒吸。

蒸餾燒瓶與圓底燒瓶在外形上的主要區(qū)別：

      蒸餾燒瓶由于需要用于分餾液體，因此在瓶頸處有一略向下伸出的細玻璃管，可用于引流。另由蒸餾燒瓶加熱需要堵住瓶口知，必有另一管伸出。

       而圓底燒瓶則無此裝置，瓶頸即為普通直頸部整流管燒瓶

  當溶液需要長時間的反應或是加熱回流時，一般都會選擇使用聚四氟乙烯燒瓶作為容器。燒瓶的開口沒有像燒杯般的突出缺口，傾倒溶液時更易沿外壁流下，所以通常都會用四氟攪拌棒輕觸瓶口以防止溶液沿外壁流下。

  燒瓶可以定制成不同的頸數(shù)，口徑和頸數(shù)可以根據(jù)實際情況來定，燒平采用高純的聚四氟乙烯，用料足不添加回料，可以耐受強腐蝕高低溫，保證用料的品質，也是為了更好地服務于實驗人員，讓客戶使用的安心放心。

  燒瓶因瓶口很窄，不適用四氟攪拌棒攪拌，若需要攪拌時，可以手握瓶口微轉手腕即可順利攪拌均勻。若加熱回流時，則可於瓶內(nèi)放入磁攪拌子，以加熱攪拌器加以攪拌。

   燒瓶隨著其外觀的不同可分平底燒瓶和圓底燒瓶兩種，也可根據(jù)客戶的要求定制不同的規(guī)格以及形狀，我們采用超純凈的聚四氟乙烯材質，沒有雜質不會添加回料，保證了低本底值，不會污染樣品，幫助實驗人員更好的實驗。

二、主要用途

(1)液體和固體或液體間的反應器；

(2)裝配氣體反應發(fā)生器(常溫、加熱)；

(3)蒸餾或分餾液體(用帶支管燒瓶又稱蒸餾燒瓶)；

三、產(chǎn)品優(yōu)勢

1、四氟燒瓶有單頸、三頸和四頸，17、19和24等標準口，每個標準口配有塞子。

2、可拆卸清洗，內(nèi)壁光滑；

3、使用溫度：-200℃～+250℃。；

4、可根據(jù)您的要求定向加工四氟圓底燒瓶；

5、蓋子與體以及各個頸與蓋子之間都是螺紋連接，方便拆卸和清洗

四、安全使用方法

①應放在石棉網(wǎng)上加熱，使其受熱均勻；加熱時，燒瓶外壁應無水滴。

②平底燒瓶不能長時間用來加熱。

③不加熱時，若用平底燒瓶作反應容器，無需用鐵架臺固定。

• 使用注意事項

1.加熱時要墊石棉網(wǎng)，也可以用其他熱浴加熱。液體量不超過容積的2/3，不少于容積的1/3；

2.配置附件（如溫度計等）時，應選用合適的橡膠塞，特別注意檢查氣密性是否良好；

3.蒸餾時事先在瓶底加入少量沸石，以防暴沸；

4.加熱時應放在石棉網(wǎng)上，使之均勻受熱；

5.蒸餾完畢須先關閉活塞后再停止加熱，防止倒吸；

高純酸提取用酸純化儀2000ml，酸純化儀：又稱酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴，很難滿足日常分析中對酸的大量需求。

因此，提純優(yōu)化酸的質量，是為經(jīng)濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

酸純化儀是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。

• 產(chǎn)品特點：

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料，保證了容器內(nèi)外的純凈度，全部采用高純凈的特氟龍材料可以避免其他金屬雜質的介入，也可以使得在酸環(huán)境下的提取中更好的操作，控制盒分離保護了電子元器件被腐蝕，延長了使用壽命。可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。

2、實驗證明將金屬雜質含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后，金屬雜質含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數(shù)，酸純化的則越純凈。

四、相關參數(shù)：

使用注意事項：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質。

1. 加酸前必須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

【電子級酸】：

適用于半導體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據(jù)質控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個級別：MOS級，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在100PPb左右

VLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10~100PPb

ULSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10PPb以下

SLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在1PPB以下

所謂的電子級酸，其實就是ppb或者ppt級的高純酸。

實驗數(shù)據(jù)（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優(yōu)級純的HF

蒸餾后，經(jīng)中國地質大學地質過程與礦產(chǎn)資源重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質的含量：

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