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CVD1200C-II-SL雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)
雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)(含預(yù)熱器)批發(fā)
設(shè)備描述
CVD1200C-II-SL 200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由預(yù)熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設(shè)備
技術(shù)參數(shù)
雙溫區(qū)滑軌爐LFT1200C-II 200D50 | 爐體結(jié)構(gòu) | 該設(shè)備采用雙層殼體并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),使其爐體表面溫度都小于55℃ · 爐底安裝一對滑軌,可手動滑動,以便滿足特殊工藝的快速升降溫的要求。 |
爐管尺寸 | Φ50/60/80/100×1600mm(可提供特殊定制。) | |
功率 | 5kW | |
輸入電壓 | 220VAC 單相 50/60Hz | |
加熱元件 | Cr27Al7MO2(摻鉬鐵鉻鋁合金) | |
高溫度 | 高溫度:1200℃ 額定溫度:1100℃ | |
升溫速率 | ≦10℃/min(*) | |
加熱區(qū)長度度 | · 兩個加熱區(qū)的長度都是200mm · 分別由獨立的溫控系統(tǒng)控制 | |
恒溫區(qū)長 | · 100+100mm(±1℃) · 可獲得較長恒溫區(qū)間 | |
控溫精度 | · ±1℃ | |
快速連接法蘭 | · Φ50快結(jié)式不銹鋼真空法蘭 · 打開法蘭直接卸下卡箍即可,取放樣品方便 | |
預(yù)熱爐 | 功率 | · 1kw |
加熱區(qū) | · 100mm | |
高溫度 | · 1200℃ | |
工作溫度 | · 200-800℃(可根據(jù)實際工藝需求調(diào)整) | |
五路質(zhì)子流量控制系統(tǒng) MFC-5Z | 電壓 | 220VAC 單相 50/60Hz |
針閥材質(zhì) | 316不銹鋼 | |
量程 | 50sccm、100sccm、500sccm、500sccm、500sccm(可根據(jù)工藝要求提供多種量程選擇) | |
工作溫度 | 5~45℃ | |
外型尺寸 | 600(L) x 600(W) x 700(H) mm | |
電壓 | AC220V/50Hz單相 | |
功率 | 23W | |
真空系統(tǒng) LVU-10 | 殼體尺寸 | · 600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm |
大承載量 | · 1000 Lbs | |
抽氣速率 | · 10m³/h · 極限真空度:10-1Pa · 雙層立式油污過濾器(PE材質(zhì))與真空泵連接 | |
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,(相關(guān)耗材除外,如爐管,密封圈加熱元件等易耗件) | |
使用注意事項 | · 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa · · 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 · 石英管的長時間使用溫度<1100℃ · 對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等) |
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