PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。
PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里,移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。
工作溫度:5~45?C
zui大壓力:3x106 Pa
精度: ±1.5% FS
線性:±(0.5-1.5)%F.S
重復(fù)精度: ±0.2%F.S.
流量范圍:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費(fèi)用
化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)