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XD2/3系列衍射儀
環(huán)境保護(hù) | 環(huán)境中石棉的定性和定量分析,粉塵和塵埃的定性分析,粉煤灰、爐渣等經(jīng)各種處理后的結(jié)構(gòu)分析。 |
石油化工 | 中油化工中未知物相分析,催化研究中催化劑研制及應(yīng)用過程中各階段物相組成變化,活性組分變化狀況分析等; X、Y、ZSM、SAPO等各種分子篩的硅鋁比,結(jié)晶度,晶胞參數(shù),晶粒大小測定,各類樣品的結(jié)構(gòu)參數(shù)測定。 |
鋼鐵冶金 | 鋼鐵 鋼鐵的定性分析、殘留奧氏體分析、殘余應(yīng)力分析、氧化膜和氮化層的分析、各種電鍍和織構(gòu)的評價。 鑄鐵 鑄鐵中的析出物和鑄造用添加劑的定性分析等。 表面處理鋼 表面處理部位的特性評價、質(zhì)量管理和殘留應(yīng)力分析。 |
電池材料 | 電池樣品的定性分析,半高寬強度比計算。例如球鎳顆粒的結(jié)構(gòu)特性分析。 |
有色金屬 | 銅鋅鋁及其合金和氧化物、氮化物的定性分析,表面處理部位的特性評價、取向分析、應(yīng)力分析。 |
醫(yī)藥化妝品 | 醫(yī)藥品 藥品原材料的定性分析、雜質(zhì)的鑒別、晶體的多形態(tài)分析和結(jié)晶度的測定、通過晶體粒徑的測定進(jìn)行藥品生產(chǎn)工藝中的質(zhì)量管理等,如*散的測定。 化妝品 化妝品中有害成分的分析,如石棉的測定。 |
建筑材料 | 陶器?瓷器?水泥?玻璃 原材料的定性分析,終產(chǎn)品的評價。如熟料和水泥的定性分析、定量分析(純石灰等)。原材料的定性分析、在玻璃表面上形成的薄膜層的定性分析、取向度分析等。 耐火磚 如,硅磚物相分析,其中游離石英的定性定量測定。 |
機械制造 | 機械零件表面定性分析、奧氏體的分析、殘留應(yīng)力的分析。尾氣處理的各種催化劑的定性分析、工具鋼的定性分析、加工整形零件的表面狀態(tài)分析、奧氏體層的分析、表面電鍍部位的定性分析、殘留應(yīng)力分析等。 |
煤炭天然氣 | 工業(yè)規(guī)模的定性分析、碳材料的評價、石油精練工藝中催化劑材料的評價。 |
主機構(gòu)成 | 項目 | XD-2 | XD-3 |
X光管 | 種類 | Cu靶,NF型 | |
焦斑 | 1.0x10mm2 | ||
大輸出 | 2kW | ||
X射線發(fā)生器 | 大輸出 | 3 kW | |
X光管電壓 | 15~60kV | ||
管電壓步寬 | 1kV | ||
X光管電流 | 6~50mA | ||
管電流步寬 | 1mA | ||
管電壓、管電流穩(wěn)定度 | ≤0.01%(電源電壓浮動10%) | ||
報警裝置 | kV過低、kV過高、mA過載、水流量、溫度 | ||
射線功率保護(hù) | 0.35、0.7、1.0、1.5、2.0、2.7kW六檔 | ||
測角儀 | 測角儀掃描半徑 | 180mm | |
測樣形式 | 樣品水平運動 | 樣品水平靜止 | |
掃描方式 | θs-2θd聯(lián)動或θs、2θd單動 | θs -θd聯(lián)動或θs、θd單動 | |
掃描角度范圍 | -180°~180°(θs) -30°~160°(2θd) | -30°~80° (θs) -30°~160°(θd) | |
工作方式 | 連續(xù)掃描、定時步進(jìn)掃描、定數(shù)步進(jìn)掃描 | ||
連續(xù)掃描速度 | 0.125°~120°/min | ||
角度重復(fù)性 | 0.0006° | ||
測量精度 | 0.001° | ||
小步進(jìn)角度 | 0.00025° | ||
發(fā)散狹縫(DS) | 0.15°、0.5°、1°、2° | ||
防散射狹縫(SS) | 0.5°、1°、2° | ||
接收狹縫(RS) | 0.1,0.15,0.30,0.45,0.6,1,2mm | ||
調(diào)零狹縫 | 0.02mm | ||
檢測·計數(shù)器 | 檢測器類型 | 閃爍晶體計數(shù)器 | |
晶體類型 | NaI | ||
檢測器噪音 | ≤1cps | ||
脈沖幅度分析器(PHA) | 輸出高壓0~1000V,穩(wěn)定性≤0.01%(8h) | ||
機柜 | 機柜尺寸(mm) | 1200(長)×800(寬)×1850(高) | |
整機重量(kg) | 500 | ||
觀察窗 | 600(高)×400(寬)×10(厚)鉛玻璃 | ||
X射線泄漏量 | ≤0.1μSv/h(未扣除天然本低) | ||
安全措施 | 門連鎖保護(hù)(門到位置,光閘才打開,產(chǎn)生X射線) | ||
濾波器·單色器 | Ni濾片(對應(yīng)Cu靶) | 消除連續(xù)X射線、熒光X射線及約98%的Kβ特征X射線 | |
石墨晶體單色器 | 反射效率η≥28%;消除全部連續(xù)X射線、熒光X射線及Kβ特征X射線; | ||
整機綜合穩(wěn)定度 | | ≤0.3% |
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