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鈣鈦礦鍍膜機(jī)
參考價(jià): 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào)
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  • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
  • 沈陽(yáng)市 所在地

訪問(wèn)次數(shù):19更新時(shí)間:2022-05-08 13:20:02

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
產(chǎn)品介紹

    鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過(guò)程中樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。

產(chǎn)品名稱

鈣鈦礦鍍膜機(jī)

主要特點(diǎn)

1、樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。

2、設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過(guò)程中加熱樣品,烘烤加熱溫度可達(dá)180℃。

3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×

           450mm×450mm

2、真空排氣系統(tǒng)采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)

3、真空度鍍膜室極限真空6×10-4Pa

4、系統(tǒng)漏率:1×10-7Pa

5、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上;有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,可測(cè)溫、

           控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無(wú)機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電

           源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開

           啟

6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上,可放置Ø120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm

7、加熱溫度:RT-180℃,測(cè)溫、控溫

8膜厚控制儀石英晶振膜厚控制儀,膜厚測(cè)量范圍0-999999Å



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