氧氬分離色譜柱:在色譜中分離氬和氧一直是一個(gè)比較難的問(wèn)題。因?yàn)槌鞘褂冒嘿F的制冷設(shè)備,否則二者會(huì)共流出。然而對(duì)于將痕量ppb級(jí)別的氬氣從純氧中分離出來(lái),則是難上加難了。ArDSieveTM色譜柱使用材料是結(jié)合了一種離子交換的沸石Clinoptilite和專(zhuān)li的后處理技術(shù)的產(chǎn)物,能促進(jìn)Ar/O2的分離。
在色譜中分離氬和氧一直是一個(gè)比較難的問(wèn)題。因?yàn)槌鞘褂冒嘿F的制冷設(shè)備,否則二者會(huì)共流出。然而對(duì)于將痕量ppb級(jí)別的氬氣從純氧中分離出來(lái),則是難上加難了。ArDSieveTM色譜柱使用材料是結(jié)合了一種離子交換的沸石Clinoptilite和專(zhuān)li的后處理技術(shù)的產(chǎn)物,能促進(jìn)Ar/O2的分離。
氧氬分離色譜柱應(yīng)用范圍
▲ 純氧中的痕量氬分析
▲ 電子氣體中的痕量氬分析
▲ 其他任何需要?dú)逖醴蛛x的應(yīng)用
氧氬分離色譜柱產(chǎn)品特點(diǎn)
? 在50℃ 解決柱溫Ar/O2分離的問(wèn)題
? 專(zhuān)li的等離子氧化處理,改進(jìn)了分離能力
? 窄目數(shù)范圍,改進(jìn)了峰對(duì)稱(chēng)性、降低了邊緣擴(kuò)散
? ASDevices LipLOKTM末端接頭技術(shù),改進(jìn)了峰對(duì)稱(chēng)性
? HydraGuradTM保護(hù)層,耐久性
? 不需要使用氧捕集阱
? 與使用氧氣捕集阱的GC系統(tǒng)相比,可以獲得更低的靈敏度