氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)是為發(fā)動機排放氣溶膠粒徑測量設計的氣溶膠粒徑光譜儀器,是真正的實時納米顆粒粒度儀。
氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)是一個“交鑰匙”系統(tǒng)。集成的稀釋和樣品調節(jié)系統(tǒng)允許從排氣口、處理前或處理后、CVS通道甚至環(huán)境中進行測量。
10Hz的數(shù)據(jù)和T10-90%的響應時間僅為300ms，即使使用7米的采樣線，氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)也能為發(fā)動機運行提供有價值的測量數(shù)據(jù)，即使在RDE、NRTC和FTP75等高度瞬態(tài)循環(huán)期間也是如此。
氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)功能
用于重量調節(jié)的顆粒質量（PM），包括即將到來的1mg/mile和用于發(fā)動機熄火模型開發(fā)（例如DPF/GPF負載模型）。
顆粒數(shù)（PN），具有表征的熱稀釋系統(tǒng)，包括一個催化汽提塔，用于在需要時去除揮發(fā)性顆粒。靈活的軟件允許使用23nm滾降（歐洲6）或未來可能的10nm滾降進行測量（可能的歐洲7）。
顆粒尺寸分布（5nm-2500nm），限度地了解燃燒行為、顆粒形成和演變
氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)每秒產(chǎn)生10次全尺寸光譜，階躍變化響應（T10-90%）低至200ms，還對數(shù)據(jù)輸出的實時雙峰擬合，給出每個氣溶膠模式下的顆粒尺寸、數(shù)量和質量。無需對純文本數(shù)據(jù)文件進行后處理。
粒徑范圍：5nm-1um 或 5nm-2.5um
氣溶膠粒徑分布測量系統(tǒng)
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