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【高精度低溫恒溫槽 技術參數】

型號	溫度范圍（℃）	溫度波動度（℃）	數顯分辨率（℃）	工作槽容積（mm3）	槽深度（m）	循環(huán)泵流量（L/min）	工作槽開口（mm2）
GDH-0506	-5~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-1006	-10~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-2006	-20~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-3006	-30~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-4006	-40~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×130	130	6	180×150
GDH-0510	-5~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×200	200	6	180×150
GDH-2010	-20~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×200	200	6	180×150
GDH-3010	-30~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×200	200	6	180×150
GDH-1015	-5~100	±0.005~±0.02	0.001	280×250×220	220	6	235×160
GDH-2015	-20~100	±0.005~±0.02	0.001	300×250×200	200	6	235×160
GDH-3015	-30~100	±0.005~±0.02	0.001	300×250×200	200	6	235×160
GDH-1020	-5~100	±0.005~±0.02	0.001	280×250×280	280	6	235×160
GDH-0530	-5~100	±0.005~±0.02	0.001	400×325×230	230	6	310×280
GDH-1030	-10~100	±0.005~±0.02	0.001	400×325×230	230	13	310×280
GDH-2030	-20~100	±0.005~±0.02	0.001	400×325×230	230	13	310×280
GDH-3030	-30~100	±0.005~±0.02	0.001	400×325×230	230	13	310×280
GDH-3005A	-30~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×120	120	6	180×150
GDH-2008W	-20~100	±0.005~±0.02	0.001	280×250×140	140	6	235×160
GDH-1015W	-10~100	±0.005~±0.02	0.001	280×250×220	220	6	235×160
GDH-3506W	-35~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-3510W	-35~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×200	200	6	180×150
GDH-0506W	-6~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×150	150	6	180×150
GDH-4006W	-40~100	±0.005~±0.02	0.001	250×200×130	130	6	180×150

加熱制冷循環(huán)槽，又稱低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環(huán)：通過泵對槽內液體介質的循環(huán)吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。循環(huán)水恒溫的應用領域：

生化領域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、*機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。

高精度低溫恒溫槽 產品特點：

節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。

效率更高——一臺循環(huán)水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。

控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀

安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其zui低溫度必須在0℃以上。

冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。

高精度低溫恒溫槽應用范圍：

對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻：電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。